
A cerimônia de construção da fábrica de componentes de núcleo semicondutor à base de carboneto de silício começou
Luz das estrelas de ShenyangAvançadoA Ceramics embarca na expansão do ecossistema de semicondutores com novas instalações de produção
A Shenyang Starlight Advanced Ceramics Co., Ltd., pioneira na China na fabricação de móveis para fornos de carboneto de silício avançado, fundada em 1995 por meio de uma joint venture sino-alemã com a Fine Technical Ceramics GmbH, anunciou hoje um salto estratégico para a integração da cadeia de suprimentos de semicondutores. A empresa iniciou a construção de sua unidade de produção de componentes principais para semicondutores e de sua oficina de CVD (Deposição Química de Vapor) em 10 de junho de 2025, marcando uma fase transformadora em sua jornada de três décadas de inovação tecnológica.
Visão geral da expansão estratégica
Este projeto de investimento de US$ 350 milhões reforça o compromisso da Shenyang Starlight com a integração vertical na fabricação de semicondutores:
Instalação de Componentes Principais: Dedicada à produção em massa de peças de carboneto de silício de altíssima pureza para manuseio de wafers, gerenciamento térmico e câmaras de processo.
Oficina CVD: Especializada em revestimentos avançados de carboneto de silício para equipamentos semicondutores, incluindo camadas resistentes a plasma e anticorrosivas.
Centro Integrado de P&D: abriga laboratórios de análise de materiais de última geração e sistemas de simulação de processos.
Capacidades Técnicas
As novas instalações aproveitarão os pontos fortes do legado da Shenyang Starlight:
Experiência em materiais: 30 anos de experiência na produção de RSiC (carboneto de silício recristalizado) e NSiC (carboneto de silício ligado a nitreto)
Patrimônio de qualidade: primeiro fabricante de fornos de carboneto de silício com certificação ISO 9001 da China (2002)
Engenharia de precisão: precisão de usinagem inferior a 0,01 mm comprovada em componentes de grau semicondutor
Reconhecimento global: 35% de participação nas exportações em mais de 20 países (segundo dados alfandegários de 2024)
Especificações da instalação
Planta de Componentes Semicondutores
Normas de sala limpa: ambientes ISO Classe 5-7
Capacidade de produção: mais de 50.000 peças de precisão anualmente
Produtos principais:
Portadores de wafer de 12 polegadas (450 mm de diâmetro externo)
Tubos de processo CVD/CVI
Componentes de anel de borda para sistemas de gravação
Oficina de Revestimento CVD
Tecnologias de deposição: capacidades PECVD, LPCVD e ALD
Desempenho do revestimento:
Rugosidade da superfície ≤0,05μm
Revestimentos com pureza de 99,999%
Durabilidade de mais de 10.000 ciclos
Impacto na indústria
Esta expansão aborda necessidades críticas da cadeia de suprimentos:
Localização: Redução da dependência de componentes semicondutores importados em 40%
Avanços técnicos: desenvolvimento de revestimentos patenteados de carboneto de silício de alta entropia
Sustentabilidade: Implementando sistemas de reciclagem de materiais em circuito fechado
Colaboração em P&D
O projeto se baseia em parcerias existentes com:
Universidade de Tsinghua: Desenvolvimento conjunto de sistemas de otimização de processos baseados em IA
Universidade do Nordeste: Modelagem avançada de estresse térmico para componentes de grande formato
Institutos CAS: Compósitos de matriz cerâmica de última geração
Cronograma do Projeto
Junho de 2025: Conclusão da fundação
4º trimestre de 2025: Instalação de equipamentos
2º trimestre de 2026: Produção piloto
2027: Operação em plena capacidade
Perspectiva de Liderança
"Esta expansão representa nossa evolução de especialista em fornos para arquiteto de soluções em semicondutores," afirmou o Sr. Liu Changchun, Presidente. "Ao integrar recursos de CVD com fabricação de precisão, estamos posicionados para fornecer soluções completas de subsistemas para fábricas de nós de 3 nm."
Posicionamento de Mercado
A iniciativa está alinhada com as metas de autossuficiência de semicondutores da China, visando:
25% de participação no mercado de componentes nacionais de carboneto de silício até 2028
Redução de 50% nos prazos de entrega para revestimentos avançados de carboneto de silício
30% de vantagem de custo sobre alternativas importadas
Compromissos de Sustentabilidade
Eficiência energética: redução de 40% no consumo de energia por meio da recuperação de calor residual
Controle de Emissões: filtragem de 99,9% de partículas em processos CVD
Utilização de material: taxa de rendimento de mais de 95% por meio de usinagem otimizada por IA
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